2025.08.18

Ansys Rocky 2025 R2 新版本功能介紹

Ansys Rocky 2025 R2 新版本功能介紹

重點概述

Ansys Rocky 2025R2 推出多項 DEM 模擬增強與多物理場耦合功能,結合對 GPU 的擴展性升級,大幅提升工業顆粒模擬的準確度與效率。

 

Ansys Rocky 2025 R2 新版本功能三大亮點

  1. DEM 模擬
    新增可變形顆粒與 EEPA 接觸模型,讓 DEM 模擬可應用於高度變形與黏著行為的場景,例如藥錠壓製與電池製程。

  2. 多物理場耦合
    支援熱、結構與電磁模擬的多向耦合,新增 DEM/SPH 結構雙向耦合功能,可同步模擬顆粒與工業設備結構的交互作用。

  3. 計算效能和可用性
    透過多顆 GPU 有效提升多達 3200 萬顆粒子的模擬效率,支援更大規模的模擬場景。

 

Ansys Rocky 2025 R2 關鍵功能介紹與應用場景

可變形顆粒

  • 新功能與好處:提供類有限元素法的顆粒變形模擬,支援顆粒的大變形行為,讓模擬能準確重現真實製程中的塑性變形,並兼容離散破裂模型。

  • 解決什麼問題:傳統 DEM 假設顆粒為剛體,無法模擬顆粒受力後的變形與破碎,可變形顆粒功能大幅提升模擬準確度。

  • 應用場景:適用於電池製造中的壓延(calendering)與製藥中的錠劑壓縮成形(tablet compaction)。

製藥中的錠劑壓製

電池製造中的壓延

 

EEPA 接觸模型

  • 新功能與好處:可模擬顆粒間的拉力,並具備顆粒壓縮時的非線性力-位移行為功能,增強模擬精度。

  • 解決什麼問題:傳統 DEM 接觸模型僅考慮顆粒在接觸時產生的壓力,但某些情況下,顆粒分開時,可能因材料黏著性或表面作用力而產生拉力,例如膠狀、粉體附著等現象。

  • 應用場景:適用於電池製造中的壓延(calendering),例如鋰電池正負極片製造中,需將混合物,例如活性材料 + 黏著劑 + 導電劑,壓製形成緻密薄層。

 

 

DEM 液體噴塗模組

  • 新功能與好處

    • 支援 GPU加速,提升模擬速度。

    • 支援粒徑分布 PSD 與粗粒模型 CGM,提升模擬準確度與效能。

    • 可控制噴霧形狀與噴霧角度,更貼近實際製程需求。

    • 模擬液體從噴嘴噴出後,藥錠與氣體間質量、動量與能量的傳遞。

    • 模擬片劑內部與片劑之間的變異性,例如不同藥錠之間的遮蔽。

  • 解決什麼問題:支援更多模擬相關參數,提升藥錠包衣模擬的真實性。

  • 應用場景:適用於藥錠包衣模擬(Tablet Coating)。

 

CGM 支援 JKR 黏著模型

  • 新功能與好處:可模擬顆粒間的拉力,並具備顆粒壓縮時的非線性力-位移行為功能,增強模擬精度。

  • 解決什麼問題:僅使用CGM 模型時,無法擬顆粒之間的真實黏著行為。

  • 應用場景:研磨機、攪拌器、混合器設計等模擬。(Tablet Coating)。

以這個研磨機為例,可以比較 CGM1 + JKR 和 CGM2 + JKR,

來展示 CGM + JKR 在可擴展性上的實施與支援。

 

支援半解析熱模擬

  • 新功能與好處:支援 Rocky 顆粒與 Fluent 流體之間的熱交換功能,並支援層流與紊流模擬,例如 k-ε 與 k-ω 兩種模型。

  • 解決什麼問題:過往熱耦合模擬難以準確模擬顆粒與流體間的熱傳遞,限制製程中對溫度行為的分析,例如乾燥、冷卻、加熱過程等。

  • 應用場景:顆粒的乾燥、冷卻或受熱過程,例如食品加工業或是製藥業。

 

DEM/SPH 與結構雙向耦合

  • 新功能與好處:支援 Rocky 與 Ansys Mechanical 之間力與位移的雙向傳遞,可同時分析顆粒行為與工業設備的交互作用。

  • 解決什麼問題:讓顆粒模擬與工業設備結構變形同步進行分析,強化工業設備的設計與驗證。

  • 應用場景:適用於攪拌器、混合器等工業設備的結構模擬。

Rocky 將 DEM/SPH 所產生的力傳遞給 Mechanical 進行變形計算,並將計算出的位移回傳給 Rocky。

 

電磁耦合模組增強

  • 新功能與好處:支援多種場調變模型(Field Modulation),例如正弦、方波、三角波、鋸齒波等,配合靜態點雲使用,能夠模擬出動態行為。

  • 解決什麼問題:過往只能模擬靜態的電磁場,無法模擬出電磁隨時間的變化情況。

  • 應用場景:模擬太陽能板利用靜電力移除塵埃,提高除塵效率。

 

GPU 可擴展性提升

  • 新功能與好處:在同時使用 2 顆 NVIDIA H100 GPU 的情況下,對 1600 萬至 3200 萬顆粒進行模擬的速度可提高 1.4~1.7 倍,有效提升大型模擬場景下的計算效率。

  • 解決什麼問題:縮短大規模 DEM 模擬時間,提升研發效率。

  • 應用場景:大型工業設備,例如旋轉滾筒的模擬。

 

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